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离子溅射镀膜是电学样品台常用的一个方法

发布日期: 2020-08-13
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  电学样品台可用于材料表面形貌分析,微区形貌观察,各种材料形状、大小、表面、断面、粒径分布分析,以及各种薄膜样品表面形貌观察、薄膜粗糙度及膜厚分析。
  离子溅射镀膜是电学样品台常用的一个方法,在部分真空的溅射室中辉光放电,产生正的气体离子;在阴极(靶)和阳极(试样)间电压的加速作用下,荷正电的离子轰击阴极表面,使阴极表面材料原子化;形成的中性原子,从各个方向溅出,射落到试样的表面,于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。对于任何待镀材料,只要能做成靶材,就可实现溅射,溅射方法有四种:直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射。
  1.直流溅射:已很少用,因为沉积速率太低,基片升温,靶材需要导电,高的直流电压,较高的气压。
  2.射频溅射:电子作振荡运动,延长了路径,不再需要高压,可制备绝缘介质薄膜,负偏压作用,使之类似直流溅射。
  3.磁控溅射:以磁场改变电子运动方向,并束缚和延长电子的运动轨迹,提高了电子对工作气体的电离几率,有效利用了电子的能量。从而使正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效,可在较低的气压条件下进行溅射,同时受正交电磁场束缚的电子又约束在靶附近,只能在其能量耗尽时才能沉积的基片上。
  4、反应溅射:在溅射气体中加入少量的反应气体如氮气,氧气,烷类等,使反应气体与靶材原子一起在衬底上沉积,对一些不易找到块材制成靶材的材料,或溅射过程中薄膜成分容易偏离靶材原成分的,都可利用此方法。
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